低(di)電(dian)流密度(du)區鍍(du)層(ceng)呈(cheng)灰黑(hei)色

    (1)原(yuan)因分(fen)析。低(di)電流(liu)密度區引(yin)起鍍層(ceng)呈(cheng)灰黑色的(de)因(yin)素很多(duo)，較為(wei)常見的有以下幾(ji)種(zhong)可能(neng)。

    ①被鉛(qian)離子(zi)污染(ran)。鍍液(ye)中鉛(qian)離子(zi)的含量過高，超過l5mg／L，此(ci)時，鍍液分(fen)散能力下(xia)降，鍍(du)層經(jing)稀硝(xiao)酸出(chu)光後會出(chu)現黃色條紋。

    鉛離子(zi)主要是(shi)由(you)劣質(zhi)鋅陽(yang)極帶(dai)入的(de)，為防止鉛的污(wu)染，鋅(xin)陽(yang)極(ji)需用(yong)o#鋅或(huo)l#鋅。

    ②被鐵離(li)子污染(ran)。鍍(du)液中(zhong)鐵離(li)子含(han)量過(guo)高，達(da)50mg／L，如鐵離子(zi)含量(liang)進(jin)一(yi)步提(ti)高，镕(rong)液會出現(xian)膠體(ti)絮狀物，鈍(dun)化後會出(chu)現紫(zi)藍色，鍍層容易(yi)出現(xian)氣泡(pao)。

    鐵離(li)子主要(yao)是由劣質氫氧(yang)化鈉或(huo)工件(jian)帶(dai)入。因此(ci)，氫氧化鈉要選(xuan)用白色(se)片(pian)堿。帶(dai)赤色(se)的氫氧化(hua)鈉絕(jue)對不(bu)可用(yong)，工件(jian)進入鍍槽(cao)前應徹(che)底(di)清洗(xi)。如使用(yong)鐵闆作(zuo)陽極(ji)，則陽極溶解而(er)積累鐵離(li)子，應(ying)使用鎳闆或鍍(du)鎳(nie)鐵(tie)闆作(zuo)為陽極(ji)。

    ③被(bei)銅離子污(wu)染。鍍液中(zhong)銅離子含(han)量過高，達20mg／L，此時，鍍層(ceng)粗糙(cao)，光(guang)亮(liang)度降(jiang)低，且(qie)光亮電流(liu)密度(du)範(fan)圍随銅(tong)離子(zi)含(han)量的增(zeng)加而(er)逐漸(jian)縮小(xiao)。

    銅離(li)子主(zhu)要是(shi)由挂(gua)鈎和(he)洗刷銅杠(gang)時帶入的(de)。

    當這(zhe)些(xie)雜(za)質離(li)子在(zai)電(dian)解(jie)液中(zhong)超過各自允許(xu)值之(zhi)後(hou)，會在低(di)電流(liu)密度(du)區，即工件的深凹部(bu)位出(chu)現烏(wu)暗、灰黑、浸亮(liang)、鈍(dun)化處(chu)理都難以(yi)改觀(guan)。

    (2)解決方法(fa)

    ①硫化(hua)鈉處(chu)理(li)。取0．1～0．5g／L化學(xue)純硫(liu)化鈉，溶于(yu)20倍以(yi)上的(de)冷水(shui)中，在劇烈(lie)攪拌(ban)下，緩慢加(jia)入鍍(du)液中，加完後繼(ji)續攪(jiao)拌20min，使(shi)之與(yu)鍍液(ye)中的(de)重金(jin)屬離(li)子充(chong)分反(fan)應，生成硫化物(wu)沉澱(dian)。

    ②鋅(xin)粉(fen)處理(li)。取1～3g／L鋅(xin)粉，在(zai)劇烈(lie)攪拌下緩(huan)慢加(jia)入鍍(du)液中(zhong)，使之(zhi)與重(zhong)金(jin)屬(shu)離子(zi)發生置換反應(ying)，加完後繼(ji)續攪(jiao)拌20min，靜(jing)止2h後進行(hang)過濾，靜(jing)置(zhi)時間(jian)不宜(yi)過長，否則(ze)失去處理(li)意義。

    ③低電(dian)流電(dian)解處(chu)理。取鍍鎳鐵闆(pan)數塊(kuai)作(zuo)陰極(面(mian)積宜大些(xie))，以0．1～0．2A／dm2的(de)電流(liu)密度進行(hang)電解(jie)處理，處理(li)時間(jian)視試(shi)鍍後(hou)情況而定。使用(yong)過的(de)鍍(du)鎳(nie)鐵闆(pan)表面的黑(hei)色鍍(du)層必須在酸中(zhong)退除(chu)，然後(hou)方可作陽(yang)極(ji)使用。該(gai)方法的優(you)點是(shi)：操作(zuo)簡便，不損(sun)耗鍍(du)液(ye)。

    采用電(dian)解處(chu)理(li)具有較(jiao)好的治(zhi)理(li)效果，這是(shi)因為重金(jin)屬雜(za)質電位較正，在(zai)陰極電流(liu)密度(du)很(hen)小(xiao)時就(jiu)會析(xi)出，在一定(ding)電流(liu)密度(du)範圍(wei)内，鍍層中重金(jin)屬雜質的百分(fen)含量(liang)是(shi)随着陰(yin)極電(dian)流(liu)密(mi)度的降低(di)而升(sheng)高的(de)，即陰極電(dian)流密(mi)度較(jiao)小時鋅本(ben)身沉積(ji)減(jian)少，故既不影響生産(chan)(可以停産時處理)，又(you)不(bu)會像其(qi)他化學方(fang)法處(chu)理時損(sun)耗溶液(ye)，是值得推(tui)廣的(de)治理(li)方(fang)法。

    ④CK一778堿(jian)性鍍鋅溶(rong)液淨(jing)化處(chu)理(li)。取2～3g／L CK一778堿(jian)性鍍(du)；鋅溶(rong)液淨化劑(ji)，用與鋅粉(fen)同樣方(fang)法(fa)進行(hang)處理(li)，但不必過(guo)濾。淨化劑(ji)加完後在繼(ji)續攪拌(ban)和靜置過(guo)程中(zhong)鍍液中(zhong)會(hui)出現(xian)漂浮物(wu)，可邊攪(jiao)拌邊(bian)用布網撈(lao)去，處(chu)理(li)完(wan)後最(zui)好再用(yong)低電流(liu)稍加(jia)處(chu)理(li)，并添加三分之一原(yuan)配方(fang)量的(de)添加(jia)劑和(he)光(guang)亮劑。

    采(cai)用以上(shang)①、②、③方(fang)法時(shi)，需先(xian)将槽底的(de)沉澱吸出(chu)來，并(bing)都需(xu)控(kong)制用量(liang)，緩緩(huan)加入，充分(fen)攪拌(ban)，事後(hou)适量(liang)添加光亮(liang)劑和(he)添加劑，并小電(dian)流處(chu)理1～2h，否(fou)則效果欠佳(jia)，甚至會(hui)發生副作(zuo)用。