電鍍(du)金屬(shu)沉積(ji)速度_大高康鑫集團有限公司 - jianfa.cc

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    電鍍金屬(shu)沉積速度

    來源(yuan):admin 發布時(shi)間(jian):2018-10-30 次浏(liu)覽

    電(dian)鍍銀(yin)沉積(ji)速度

    (電流效率(lü)為100%時(shi))

    電鍍(du)時間(jian)(min

    0.2A/dm2

    0.3 A/dm2

    0.5 A/dm2

    0.7 A/dm2

    1.0A/dm2

    1.5 A/dm2

    1um

    7.9

    5.3

    3.2

    2.3

    1.6

    1.1

    2um

    15.8

    10.5

    6.3

    4.5

    3.2

    2.1

    3um

    23.7

    15.8

    9.5

    6.8

    4.7

    3.2

    5um

    39.5

    26.4

    15.8

    11.3

    7.9

    5.3

    7um

    55.3

    36.9

    22.2

    15.8

    11.0

    7.4

    9um

    71.1

    47.6

    28.4

    20.4

    14.2

    9.5

    10um

    79.0

    52.7

    31.6

    23.0

    15.8

    11.0

    30um

    237

    158

    95.0

    68.0

    47.0

    32.0

    50um

    395

    264

    158

    113.0

    79.0

    53.0

    80um

    632

    422

    253

    181

    126

    84.0

    100um

    790

    527

    315

    230

    158

    110

     

     

     

    電鍍(du)錫沉(chen)積速度

    (電(dian)流效(xiao)率為70%時)

    電鍍

    時間(min

    0.3 A/dm2

    0.4

    A/dm2

    0.5 A/dm2

    0.6

    A/dm2

    0.7

    A/dm2

    0.8

    A/dm2

    1.0

    A/dm2

    1.2

    A/dm2

    1.5 A/dm2

    1um

    18.9

    14.2

    11.3

    9.4

    8.1

    7.1

    5.7

    4.7

    3.8

    2um

    37.8

    28.3

    22.7

    18.9

    16.2

    14.2

    11.3

    9.4

    7.5

    3um

    56.6

    42.5

    34.0

    28.3

    24.3

    21.3

    17.0

    14.1

    11.3

    4um

    75.0

    57.0

    45.3

    38.0

    32.0

    28.0

    22.6

    19.0

    15.0

    5um

    94.0

    71.0

    57.0

    47.0

    40.0

    35.4

    28.3

    23.6

    18.8

    6um

    113

    85.0

    68.0

    57.0

    48.5

    42.5

    34.0

    28.3

    22.6

    7um

    132

    99.0

    79.0

    66.0

    57.0

    49.5

    39.6

    33.0

    26.4

    8um

    151

    113

    91.0

    76.0

    65.0

    57.0

    45.0

    38.0

    30.0

    9um

    170

    127

    102

    85.0

    73.0

    64.0

    51.0

    43.0

    34.0

     

     

     

     

    電(dian)鍍鉻沉積(ji)速度

    (電流效率(lü)為13%時(shi))

    電鍍

    時間(min

    10 A/dm2

    15

    A/dm2

    25 A/dm2

    30

    A/dm2

    35

    A/dm2

    40

    A/dm2

    50

    A/dm2

    60

    A/dm2

    80

    A/dm2

    100 A/dm2

    1um

    9.81

    6.53

    3.92

    3.26

    2.80

    2.45

    1.96

    1.63

    1.22

    0.98

    2um

    19.6

    13.1

    7.85

    6.54

    5.60

    4.90

    3.92

    3.92

    2.45

    1.96

    3um

    29.4

    19.6

    11.8

    9.81

    8.41

    7.35

    5.88

    4.90

    3.68

    2.94

    4um

    39.2

    26.1

    15.7

    13.1

    11.2

    9.80

    7.85

    6.55

    4.91

    3.92

    5um

    49.1

    32.7

    19.6

    16.3

    14.0

    12.3

    9.81

    8.15

    6.13

    4.91

    6um

    58.9

    39.2

    23.5

    19.6

    16.8

    14.7

    11.8

    9.80

    7.35

    5.89

    7um

    68.7

    45.8

    27.5

    22.9

    19.6

    17.2

    13.7

    11.5

    8.58

    6.87

    8um

    78.5

    52.3

    31.4

    26.2

    22.4

    19.6

    15.7

    13.1

    9.81

    7.85

    9um

    88.3

    58.8

    35.3

    29.4

    25.2

    22.1

    17.7

    14.7

    11.0

    8.83

    10um

    98.1

    65.4

    39.2

    32.7

    28.0

    24.5

    19.6

    16.4

    12.3

    9.81

     

     

    電鍍(du)鎳沉積速(su)度

    (電流(liu)效率為(wei)95%時)

    電(dian)鍍

    時(shi)間(min

    0.5 A/dm2

    0.8

    A/dm2

    1.0 A/dm2

    1.2

    A/dm2

    1.5

    A/dm2

    2.0

    A/dm2

    2.5

    A/dm2

    3.0

    A/dm2

    4.0

    A/dm2

    1um

    10.3

    6.4

    5.1

    4.3

    3.4

    2.6

    2.1

    1.7

    1.3

    2um

    20.5

    12.8

    10.2

    8.6

    6.8

    5.1

    4.1

    3.4

    2.6

    3um

    31

    19.2

    15.4

    12.8

    10.3

    7.7

    6.2

    5.1

    3.8

    4um

    41

    25.6

    20.5

    17.1

    13.7

    10.3

    8.2

    6.8

    5.1

    5um

    51

    32

    25.7

    21.4

    17.1

    12.8

    10.3

    8.6

    6.4

    10um

    103

    64

    51

    43

    34

    25.6

    20.5

    17.1

    12.8

    15um

    154

    96

    77

    64

    51

    38

    31

    25.7

    18.2

    20um

    205

    128

    103

    86

    68

    51

    41

    34

    25.6

    25um

    256

    160

    128

    107

    85

    64

    51

    43

    31

    30um

    308

    192

    154

    128

    103

    77

    62

    51

    38

    40um

    410

    256

    205

    171

    137

    103

    82

    68

    51

    50um

    513

    321

    257

    214

    171

    128

    103

    86

    64

     

     

     

     

     

    不同電(dian)流效(xiao)率的(de)電鍍(du)金沉(chen)積速度

                                                     單(dan)位:um/h

    陰極電(dian)流效率

    60

    70

    80

    90

    100

    0.1A/dm2

    2.3

    2.7

    3.0

    3.4

    3.8

    0.2A/dm2

    4.5

    5.3

    6.1

    6.8

    7.6

    0.3A/dm2

    6.8

    8.0

    9.1

    10.3

    11.4

    0.4A/dm2

    9.0

    10.6

    12.2

    13.7

    15.3

    0.5A/dm2

    11.3

    13.3

    15.2

    17.1

    19.0

    0.6A/dm2

    13.6

    16.0

    18.2

    20.6

    22.8

    0.8A/dm2

    18.0

    21.2

    24.4

    27.4

    30.6

    1.0A/dm2

    22.6

    26.6

    30.4

    34.2

    38.0

     

     

     

     

    電鍍(du)金屬沉積(ji)速度(du)(圖1)



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