如(ru)何正确判析霍(huo)爾槽試片(pian)

做霍(huo)爾(er)槽試驗(yan)，是很(hen)多電(dian)鍍廠技術(shu)人員(yuan)用來(lai)判斷(duan)槽(cao)液(ye)是否(fou)正常的一(yi)種方(fang)法，從試片上能(neng)夠反應出很多(duo)問題;一(yi)般試片(pian)要從時(shi)間、PH值、電(dian)流、高區(qu)、中(zhong)區、低(di)區、背(bei)面的次高(gao)區和次(ci)低(di)區、黑(hei)線帶、液(ye)面黑線(xian)帶、雙(shuang)線帶、虛鍍區來分析(xi)。

1、 時間(jian)：适當;

2、 PH值和(he)溫度(du)：得和(he)槽液相同(tong);

3、 電流：适當(dang)

4、 高區：如果(guo)試片(pian)出現(xian)高區燒焦，說明主鹽(yan)成份低(di);如(ru)果高(gao)區發(fa)霧，說明光(guang)亮劑(主光(guang)劑)過(guo)多;高區有條紋(wen)，說明(ming)金屬雜質(zhi)多;

5、 中(zhong)區：如果(guo)試(shi)片中(zhong)區不(bu)亮(liang)，并(bing)有亮(liang)區和不(bu)亮區的(de)分界線(xian)，說(shuo)明導(dao)電鹽(yan)或(huo)光(guang)亮劑(ji)不足，可(ke)以(yi)排查(cha);

6、 低區(qu)：如果試片(pian)低區(qu)出現發黑發暗(an)，有幾(ji)種(zhong)原(yuan)因：一(yi)是導電鹽不足(zu)，二是(shi)光亮(liang)劑不(bu)足，三是(shi)金屬雜(za)質多;

7、 背面的(de)次(ci)高區(qu)：次高(gao)區(qu)亮區越(yue)寬說明走位越(yue)好，如(ru)果(guo)亮(liang)區低(di)于1厘米，說明走位不(bu)好，光亮劑(ji)和導電鹽低;

8、 背面的(de)次低區：背(bei)面的(de)次低(di)區如無鍍(du)層，說(shuo)明(ming)鉛雜質(zhi)過多或導電鹽(yan)和光亮劑(ji)不足，排查;

9、 黑線帶：這(zhe)些都(dou)在試(shi)片的(de)背面(mian)，有一條孤型黑線帶，但不經常(chang)有。當(dang)有機(ji)物過(guo)多時，黑線帶才(cai)會出(chu)現，并(bing)且光亮劑和柔軟劑(ji)不成比例(li)，柔軟(ruan)劑少(shao);背面(mian)的黑(hei)線帶越淡越細(xi)越好;

10、液面黑線(xian)：在試(shi)片上(shang)如有和液(ye)面平(ping)行的一條黑線(在(zai)正(zheng)面)，說(shuo)明光亮劑(ji)過量(liang);

11、雙線(xian)帶：如果在(zai)試片(pian)的背面出(chu)現有(you)兩條孤型(xing)的黑線帶(dai)，說(shuo)明導電(dian)鹽嚴重不(bu)足，有(you)機物過多;

12、虛鍍(du)區：出(chu)現在(zai)試片的背(bei)面，在孤型黑線帶裡(li)面;出光鈍(dun)化後虛鍍(du)層消(xiao)失，說明(ming)鍍液各(ge)成份的含(han)量不對，主(zhu)鹽成份低(di)和導(dao)電(dian)鹽過高(gao)，光亮(liang)劑過量;

13、做(zuo)霍爾槽實驗時，時間(jian)、PH值、電流的(de)不同(tong)試片(pian)所呈(cheng)現的(de)現象也不(bu)同